Шпионский арсенал

Надо сказать, что проектирование, разработка и производство специальной фототехники всегда были непривлекательными направлениями для крупнейших советских и западных концернов фотоиндустрии. По сравнению с обычными фотокамерами специальная фотоаппаратура, как правило, заказывалась небольшими партиями, изготовление было мелкосерийным, а потому и невыгодным для основных производственных показателей фотооптических предприятий. Кроме того, все этапы изготовления специальной фототехники от разработки эскизов и чертежей до испытания опытных и серийных образцов необходимо было засекречивать. Для этого на предприятиях создавались специальные секретные отделы и цеха, все сотрудники которых получали соответствующие допуски, выдаваемые после тщательной проверки кандидата органами КГБ. За выполнением всех требований допуска велся тщательный контроль офицерами контрразведки, главной задачей которых было предотвращение утечки любой информации о производимой спецтехнике, используемых материалах и технологиях. А сами разработчики и конструкторы не имели возможности выступать на крупных отечественных или международных симпозиумах с докладами о своих изобретениях, новых реализованных идеях или просто с гордостью похвалиться образцами новой продукции своих коллективов. Даже мемуары и простые печатные воспоминания были категорически запрещены для специалистов всех уровней этой закрытой от посторонних глаз особой фотоиндустрии КГБ.

Эта глава — дань уважения и памяти до сих пор неизвестным настоящим героям холодной войны: офицерам-разработчикам, проектировщикам и механикам, а также ветеранам оперативно-технической службы ПГУ, создававшим уникальный арсенал советской оперативной техники и методов ее использования, в том числе и этот шедевр ХХ века — микрофотокамеру в губной помаде, с помощью которой разведки ГДР и КГБ получали бесценные документальные материалы.

Глава 30. Специальные тонкие фотопленки

Первые практические результаты использования тонкой фотопленки «1-70» и перспективы проектирования серии микрофотоаппаратов поставила перед ведущими специалистами ОТУ КГБ и НИЛ-11 задачу создания сверхтонких пленок, которые бы имели мелкозернистую структуру, обязательную для детальной проработки изображений документов, схем и рукописных материалов с редкими языками. С другой стороны, сверхтонкие пленки должны быть достаточно чувствительными, чтобы пользователь мог при выдержках 1/30 — 1/50 сек применять обычные настольные лампы мощностью 75 — 150 ватт для освещения фотографируемого документа. Но показатель чувствительности пропорционален размеру зерна фотоэмульсии, и решение проблемы надо было искать в новых фотоматериалах и способах повышения чувствительности, которые не влияли бы на увеличение зернистости эмульсионного слоя.

Параллельно созданию серии микрофотокамер технические подразделения и первые отделы советских фотохимических концернов «СВЕМА» и «ШОСТКА», а также научно-исследовательские центры военной разведки ГРУ вели интенсивный поиск новых технологий изготовления сверхтонких пленок толщиной порядка 25–50 микрон с чувствительностью 400–800 ед. ГОСТ и высоким разрешением. Для помощи в решении проблемы создания новых фотоэмульсий привлекался коллектив НИИ кинофотоиндустрии СССР.

Бывшие в распоряжении КГБ фотоматериалы имели чувствительность до 400 ед. ГОСТ, однако при этом зерно таких пленок было достаточно большим и не позволяло использовать эту пленку для микрофотокамер с выдержкой 1/30 и короче.

Повышение чувствительности фотопленки (этот процесс назывался сенсибилизацией) достигалось двумя способами: оптическим, за счет увеличения размеров зерна эмульсионного слоя, и химическим. Желатина, как основа фотослоя, изготавливалась из кож и костей маленьких бычков. Затем эту смесь варили и отстаивали. Далее следовала операция полива эмульсии на подложку и сушка. Готовую фотопленку в КГБ получали партиями, в маркировке которых изготовитель указывал рекомендованное время проявления и реальный показатель чувствительности. Такие измерения каждой партии пленок были обязательными, поскольку в то время все этапы изготовления фотоэмульсионного слоя выполнялись вручную, и потому имел место некоторый разброс параметров фотослоя от партии к партии.